SU-8光刻胶相关论文
平面式固体化学微推进器作为微小卫星的微推进系统,具有结构简单、响应迅速以及推力可调的优点。本文以SU-8光刻胶和PCB板作为主体......
采用SiO2/Si构建了可见光波段的分布式布拉格反射镜(DBR),在其中加入SU-8光刻胶制备的中心腔,构成传统的布拉格反射波导(BRW),利用......
针对微流体检测对高灵敏度和较大动态测量范围的要求，设计了一种由SU-8光刻胶一体合成的微型法布里珀罗(F-P)干涉剪应力传感器。结......
涡旋光束具有螺旋型的波前相位且能够携带轨道角动量，尤其是完美涡旋光束，其亮环半径不随拓扑荷数的变化而变化，在粒子操控、光学通信......
微纳流控芯片是将微米结构和纳米结构集成为一体的多功能芯片,在基因测序、生化分析和环境检测等方面展现出广阔的应用前景。目前,......
SU-8光刻胶因具有良好的机械耐久性、聚合物水密性、介电性能、生物兼容性和抗化学腐蚀性而被广泛用于MEMS器件、生物医学和芯片封......
近年来，聚合物材料的研究成为了当前国内外学者的研究重点，许多研究者致力于开发新的材料配方、改进已有材料，希望能够合成天然的、具......
21世纪分析仪器和分析科学的目标是分析仪器的微型化与集成化，微流体芯片是其中发展最快的一个方向。微混合器是微流体芯片的重要组......
目前越来越多的工业应用,特别是一些特殊应用领域,如桥梁建筑的结构检测系统、交通监测系统、石油勘探的地震检波系统、以及航空航......
近年来,随着微机电系统(MEMS)技术的日趋成熟,可集成芯片级的储能元件需求量日益增加。碳基微超级电容器作为最常用的双电层原理的......
准LIGA技术由于其成本低、加工过程简便而倍受微加工制造行业的高度关注。本论文利用激光的高方向性和脉冲的可控性,分别采用Nd:YA......
提出了一种简便快速制作高聚物微流控芯片镍阳模的新方法.采用抛光镍片作为电铸基底,涂覆SU-8光胶层后,光刻得到SU-8微结构.以镍基......
研究了曝光剂量对于小孔成型孔径的影响。实验中发现由于SU-8为负性光刻胶,曝光聚焦条件控制不佳会导致倾角较大的倒梯形结构,不利......
为分析和解决商业用SU-8胶在355 nm波长的吸收性和后烘缩胶等问题,先采用柱层析对SU-8环氧树脂进行分离,然后进一步用高压液相色谱......
采用氧气反应离子刻蚀（RIE）SU-8光刻胶，以获得三维SU-8微结构（如斜面）。实验采用套刻、溅射、湿法腐蚀、电镀等技术实现光刻胶上镍掩膜......
利用超声时效技术减小聚合物SU-8光刻胶的内应力,讨论了其机理.以基片曲率法为基础,建立了轮廓法测量SU-8胶层内应力的计算模型.实......
描述了一种压电喷墨打印头SU-8光刻胶锥形喷孔的制作方法.该方法基于接近式曝光工艺和键合工艺,首先在PDMS基底上旋涂SU-8光刻胶,......
针对金属微注塑模具UV-LIGA制作过程中由于SU-8胶内应力过大而引起的胶膜破裂、变形甚至脱落等问题，提出将超声时效技术应用于微注......
SU-8光刻胶是厚胶工艺常用的光刻胶,它是一种基于EPON SU-8树脂的环氧型、负性、近紫外线光刻厚胶,由于曝光时SU-8光刻胶层能够得......
在无氧环境下热解具有一定图样的SU-8光刻胶，成功地制备高度有序的碳微米网薄膜（CMNFs）。TEM和SAED结构特性测试表明该CMNFs为晶态和......
针对SU-8光刻胶应用于三维光子晶体的制作研究,本文提出并实现了对SU-8光刻胶的重要成分SU-8环氧树脂采用柱层析和高压液相色谱-尺......
采用光刻胶SU-8的光刻成型技术和“多次光刻、一次显影”工艺制备了基于三层SU-8结构的微喷阵列芯片，重点研究了SU-8胶工艺过程中平......
运用分子动力学模拟软件Materials Studio针对SU-8胶与Ni基底的结合性进行模拟分析,计算了不同前烘温度下SU-8胶与Ni（100）面的结合能......
喷墨打印技术具有无接触、无压力和高效快速的特点,随着相关技术的快速发展,应用范围由传统图像打印扩展到工业制造领域,但其核心......
基于SU-8和BPN紫外负性感光胶,结合微电镀工艺加工制作射频同轴传输线,以实现射频器件信号的传输与耦合。首先确定在阻抗匹配情况......
光纤法布里-珀罗传感器自上世纪八十年代开始发展,现已成为传感领域一个研究热点。此类传感器结构简单、测量精度高、抗电磁干扰、......
随着MEMS技术的迅速发展,金属微器件的需求量逐渐增加。基于SU-8光刻胶的UV-LIGA技术是制作金属微器件的有效方法之一。在以SU-8光......
喷墨打印头作为日常生产生活中不可缺少的部分,不仅应用于文字和商业印刷领域,同时也应用于包装、陶瓷印花和集成电路打印。本文主......
在深紫外LIGA加工中,制作高精度大高宽比的微器件是很困难的.难点在于SU-8光刻胶对紫外光的吸收系数随着波长变短而很快变大,而且......
首次将超声处理引入UV-LIGA工艺中,研究了超声处理对SU-8胶模溶胀的影响,并探讨了其影响机理,从而获得了减小胶模溶胀及提高电铸微......
为了增大MEMS超级电容器电极结构的表面积,提高MEMS超级电容器的电荷存储能力,研究了利用SU-8胶制备高深宽比三维电极微结构。经过......
基于COMPASS分子力场,经过分子聚合,能量最小化和退火模拟等构建SU-8光刻胶模型。利用分子动力学的研究方法,模拟研究了SU-8胶的玻......
随着微机电系统(MEMS)技术的快速发展及大规模应用,喷墨打印技术在许多非喷绘行业中的应用越来越广泛,这也使喷墨打印技术成为了在......
提出了一种简便快速制作高聚物微流控芯片镍阳模的新方法。采用抛光镍片作为电铸基底,涂覆SU-8光胶层后,光刻得到SU-8微结构。以镍......
环氧树脂型SU-8光刻胶是UV-LIGA工艺金属微器件制作中最常用的一种负胶,它对紫外光十分敏感,并具有良好的机械及耐化学腐蚀等性能......
随着微机电系统(MEMS)的迅速发展,SU-8光刻胶作为制作高深宽比结构的首选胶,已经被广泛地应用于MEMS研究领域。然而SU-8胶在工艺过......
光栅是由平行排列的许多栅线条组成的，通常作为核心器件被广泛应用于通信、光存储及光谱分析领域,起着色散、分束、偏振和位相匹配......
微电子机械系统是21世纪科技与产业的热点之一,而微细加工技术又是MEMS发展的重要基础。在MEMS领域中,微结构需要具有较大深宽比的......
随着微光机电系统(MOEMS)的迅猛发展,人们对于光学元件的微型化的需求日益增加。而透镜作为光学系统中非常重要的元件,透镜的微型......
介绍了一种新颖的微注塑模具的制作方法———无背板生长法,它是利用负性厚SU-8光刻胶,通过低成本的UV-LIGA表面微加工工艺,直接在......
SU-8光刻胶层内应力会使胶体结构开裂变形,而其在电铸液中的热溶胀效应则是造成微电铸结构线宽减小的主要因素,SU-8胶的内应力和溶......
MEMS(微电子机械系统)是21世纪科技与产业的热点之一,而微细加工技术又是MEMS发展的重要基础。在MEMS领域中,常需要用到具有一定厚......
SU-8光刻胶是一种负性光刻胶,在紫外光下有很好的光刻特性。近年来,SU-8光刻胶在制作高深宽比的微结构和微器件方面取得了不少成果......
